首页 > 解决方案 > 光刻机掩膜台定位系统
光刻机掩膜台定位系统

问题:掩膜与晶圆对位误差导致线宽失真

配置:直线电机模组+激光干涉仪闭环

优势:纳米级动态定位/抗振动干扰

价值表现:套刻精度≤1.5nm,良率提升2%

在线咨询

18024408928

  • 关联产品

选型导航

直线电机快捷选型工具

请选择本体宽度

在线咨询

与专业人员在线沟通,快速获取你想要的解决方案

客服热线

18024408928

微信咨询